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食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀
簡要描述:

HI8410食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀,采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將Z先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。

  • 產(chǎn)品型號:HI84100
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2017-09-19
  • 訪  問  量:2105

詳細介紹

品牌HANNA/意大利哈納

 

儀器介紹:
HI8410食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀,采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。

* 基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電測量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡單,可直接顯示測量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計,具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
技術(shù)指標:
測量項目
 
二氧化硫
量程
 
0 to 400 ppm of SO2
解析度
 
1 ppm
精度
 
讀數(shù)的5%
測量方法
 
滴定法
測量原理
 
等電位氧化還原滴定法
取樣量
 
50 mL
ORP
 
HI 3148B
泵流量
 
0.5 mL/min
攪拌速率
 
1500 rpm
適用環(huán)境
 
0 to 50°C (32 to 122°F); max 95% RH無冷凝
供電方式
 
220V/60 Hz; 10VA
尺寸重量
 
208 x 214 x 163 mm;2200 g

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